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北京科华微电子材料有限公司

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网站简介:北京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业,成立于2004年,是一家产品覆盖KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂--商与服务商,也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。
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百万站官网资料-北京科华微电子材料有限公司

京科华微电子材料有限公司是一家中美合资企业,成立于2004年,是一家产品覆盖KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂--商与服务商,也是集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业。

科华微电子拥有中高档光刻胶生产基地:2005年,建成百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线;2009年5月,建成高档G/I线正胶生产线(500 吨/年)和正胶配套试剂生产线(1000 吨/年);2012年12月,科华微电子建成248nm光刻胶生产线。

科华微电子光刻胶产品序列完整,产品应用领域涵盖集成电路(IC)、发光二极管(LED)、分立器件、先进封装、微机电系统(MEMS)等。产品类型覆盖KrF(248nm)、G/I线(含宽谱),主要包括:KrF光刻胶DK1080、DK2000、DK3000系列;g-i line光刻胶KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100系列和KMP EP3200A系列;Lift-off工艺使用的负胶KMP E3000系列;用于分立器件的BN、BP系列等。

科华微电子研发技术力量雄厚,拥有多名光刻胶专家,具备很强的光刻胶及原材料合成、配方及相关基础评价能力;能够持续推出符合客户需求的新产品;科华微电子自成立以来,承担了多项国家、北京市级光刻胶重点研发及产业化项目。

科华微电子有完备的支持产品研发和出厂检验的分析和应用测试平台。公司拥有两个mini FAB,有分辨率达到0.11um的ASML PAS5500/850扫描式曝光机、Nikon步进式曝光机、TEL ACT8涂胶显影一体机和Hitachi S9220 CD SEM等主流设备。上述测试平台确保了科华能够开展KrF、G/I线光刻胶产品及关键原料的开发与全面评估。

科华微电子管理体系完整,通过了质量管理体系(ISO9001)、环境管理体系(ISO14001)、职业健康安全管理体系(OHSAS18001)和有害物质过程管理体系(IECQ QC080000)的认证,并获得认证证书。

科华微电子产品技术先进,拥有国内或国际专利数项,产品质量稳定,是中芯国际、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。
经过十多年的发展,公司已具相当规模和品牌影响力,我司将致力于成为一家世界一流的先进光刻胶产品--商与服务商。

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